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新聞資訊

芯片器件不發(fā)光發(fā)熱,用什么檢測(cè)設(shè)備找熱點(diǎn)?

發(fā)布時(shí)間:2024-05-15 瀏覽次數(shù):1144

失效點(diǎn)定位方式是IC器件通電后會(huì)產(chǎn)生電流,偵測(cè)到在異常缺陷的IC電流差異產(chǎn)生的光子激發(fā)與熱輻射,即能定位到此缺陷的位置;但有些情況下,這些電流差異并不會(huì)有明顯的光子激發(fā)與熱輻射發(fā)生,如金屬橋接造成的歐姆短路,空孔造成的電阻值變大等機(jī)制;因此EMMI和Thermal EMMI并不能有效偵測(cè)到這些缺陷機(jī)制所產(chǎn)生的訊號(hào)。


  如同醫(yī)生看診,若無(wú)法由病患本身發(fā)出的征狀找出問(wèn)題點(diǎn),醫(yī)生可轉(zhuǎn)換成觸診模式,如按壓身體部位,當(dāng)病患對(duì)按壓的點(diǎn)有任何異常反應(yīng)時(shí),即可判斷該位置有異??赡?。


  IC器件也可以用相同的原理進(jìn)行,利用激光束在IC表面掃描作微區(qū)加熱,若某個(gè)加熱的微區(qū)造成IC在通電狀態(tài)下的電流或電壓有改變異常,即可判斷該微區(qū)有異??赡堋_@項(xiàng)技術(shù)就是OBIRCH(激光束電阻異常偵測(cè)),機(jī)臺(tái)外觀如圖1所示。


    


圖一


  OBIRCH技術(shù)原理


  OBIRCH是利用激光束在IC表面掃描作微區(qū)加熱,激光束會(huì)造成掃描區(qū)區(qū)域內(nèi)的材料被加熱。若IC中存在缺陷因其材質(zhì)電阻溫度系數(shù)不同于其它的完整區(qū)域,則該區(qū)會(huì)引起的溫度變化會(huì)不同,而溫度變化會(huì)造成電阻值增加或降低的現(xiàn)象(ΔR)。如果在掃描同時(shí)對(duì)樣品特定電路施加定電壓,則可偵測(cè)到電流變化關(guān)系為ΔI=(ΔR/R)I。將激光加熱引起的電阻變化導(dǎo)致電流變化,記錄該位置與通過(guò)激光束掃描芯片產(chǎn)生的影像圖重疊,即可做出定位。如圖2說(shuō)明:


    


圖二


  背向式OBIRCH的優(yōu)勢(shì)


  在OBIRCH測(cè)量中,通常使用波長(zhǎng)為1.34µm的激光束,這激光的能量低于Si帶隙(Eg=1.12 eV),因此產(chǎn)生電子-空穴對(duì)的可能性低,因此于硅材質(zhì)中激光的衰減很弱(相對(duì)是透明的狀態(tài)),有助于光到熱的轉(zhuǎn)換而發(fā)生吸收,因此電子-空穴對(duì)感應(yīng)出的光電流是對(duì)OBIRCH信號(hào)的強(qiáng)噪聲。另一方面,激光在硅材質(zhì)中相對(duì)是透明的狀態(tài),有助于背向式加熱分析。


  當(dāng)錯(cuò)綜復(fù)雜和線寬大的金屬接線阻擋激光進(jìn)入比較底層線路,則加熱的機(jī)制無(wú)法精確作用,因此缺陷位置無(wú)法偵測(cè)到,這狀況下則建議進(jìn)行背向式分析,以避開多層金屬線的阻擋。


  華測(cè)蔚思博檢測(cè)配備領(lǐng)先業(yè)界的背向式OBIRCH裝置,針對(duì)現(xiàn)在普遍使用的FCBGA和WLCSP封裝,不需要經(jīng)過(guò)額外的打線作業(yè),即可進(jìn)行分析,節(jié)省時(shí)間及費(fèi)用。


    


    


圖三


  如何解讀OBIRCH的亮暗對(duì)比訊息


  客戶對(duì)OBIRCH的技術(shù)原理并不陌生,但對(duì)于數(shù)據(jù)的亮暗對(duì)比常有疑問(wèn),因此我們解釋亮暗對(duì)比的成因:


  材料的電阻溫度系數(shù)有正與負(fù)的區(qū)別,電阻的正溫度系數(shù)(αTCR>0)是指材料在一定溫度范圍內(nèi)的電阻值會(huì)隨溫度上升而上升,如一般的金屬材料;電阻負(fù)溫度系數(shù)(αTCR<0)是指其電阻值隨溫度升高而降低,如半導(dǎo)體、絕緣體的電阻值都隨溫度上升而下降。


  αTCR>0代表材料吸熱后電阻值會(huì)上升(ΔR>0)導(dǎo)致電流(ΔI<0)會(huì)下降,因此呈現(xiàn)暗的對(duì)比;反之αTCR<0代表材料吸熱后電阻值會(huì)下降(ΔR<0),導(dǎo)致電流會(huì)上升(ΔI>0)因此呈現(xiàn)亮的對(duì)比,如圖4所描述。


    


圖四


  OBIRCH應(yīng)用領(lǐng)域


  OBIRCH是一種非常強(qiáng)大的集成電路故障定位技術(shù)。在半導(dǎo)體故障分析中,OBIRCH通常用于定位芯片內(nèi)部高阻抗及低阻抗分析,是發(fā)光顯微技術(shù)的有力互補(bǔ)分析工具。


  ·短路/橋接:Interconnection(Metal or poly)的橋接;線路或組件的燒毀產(chǎn)生短路。


  ·漏電:柵極氧化層缺陷(Gate Oxide Pin Hole);P-N界面漏電或崩潰;界面/阱漏電。


  ·高阻抗:Interconnection(Metal or poly)的孔洞/Contact or via孔洞或底部阻值異常;線路或組件的燒毀產(chǎn)生線路殘留。


  OBIRCH具有高分辨能力,其測(cè)試精度可達(dá)nA級(jí)。搭配進(jìn)行背向式分析,即可快速針對(duì)FCBGA和WLCSP封裝進(jìn)行分析,節(jié)省時(shí)間及費(fèi)用外,更可減低試樣打線過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)。


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